IGZO技術(shù)是近來(lái)半導(dǎo)體顯示市場(chǎng)最熱門的技術(shù)，不過(guò)由于其在成膜過(guò)程中存在對(duì)氫氣敏感、膜質(zhì)均勻性要求高等特點(diǎn)，大規(guī)模生產(chǎn)過(guò)程中存在成品率較低的問(wèn)題。近日，半導(dǎo)體設(shè)備大廠應(yīng)用材料推出適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產(chǎn)的PVD和PECVD設(shè)備，促進(jìn)IGZO新型顯示屏的大規(guī)模量產(chǎn)實(shí)施。

    IGZO成市場(chǎng)新熱點(diǎn)

    市場(chǎng)對(duì)顯示屏的需求越來(lái)越高：屏幕尺寸不斷擴(kuò)大，今年智能手機(jī)5英寸屏幕逐漸成為主流，明年有望過(guò)渡到6.3英寸；分辨率越來(lái)越高，電視從高清到超高清，甚至出現(xiàn)4K、8K電視；此外OLED電視、柔性顯示等話題也不斷被炒熱。

    要實(shí)現(xiàn)上述性能，未來(lái)顯示技術(shù)必將從傳統(tǒng)的非晶硅顯示轉(zhuǎn)到金屬氧化物技術(shù)或低溫多晶硅技術(shù)之上。不過(guò)，隨著薄膜晶體管越來(lái)越小，玻璃基板尺寸越來(lái)越大，能否形成均勻的IGZO膜質(zhì)，對(duì)成品率至關(guān)重要。

    為順應(yīng)市場(chǎng)需求，半導(dǎo)體及顯示設(shè)備制造商應(yīng)用材料公司日前推出了適用于IGZO金屬氧化物薄膜生產(chǎn)的AppliedAKT-PiVot55K/25kDTPVD和AppliedAKT55KSPECVD。應(yīng)材表示，設(shè)備及工藝所提供的膜質(zhì)均勻性和微粒控制性能可為客戶實(shí)現(xiàn)IGZO新型顯示屏大規(guī)模生產(chǎn)提供保障。

    旋轉(zhuǎn)耙材有利良率提升

    針對(duì)AKT-PiVotDTPVD設(shè)備(55K用于2200mm×2500mm的玻璃基板，25K用于1500mm×1850mm的玻璃基板)應(yīng)用材料PVD產(chǎn)品事業(yè)部總經(jīng)理約翰·布什表示，之所以能夠?qū)崿F(xiàn)良好的膜質(zhì)均勻性，與設(shè)備采用的旋轉(zhuǎn)靶材及等離子搖擺控制機(jī)能相關(guān)。首先，旋轉(zhuǎn)耙材的采用可以在耙材旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，不停地通過(guò)冷卻水，使整個(gè)耙材表面的冷卻效果更好，達(dá)到溫度的均勻性，進(jìn)而成就比較高的成膜速度。其次，可以大大提高耙材的利用率，與平面耙材相比，旋轉(zhuǎn)耙材的耙材利用率可以達(dá)到80%。再次，旋轉(zhuǎn)耙材可實(shí)現(xiàn)氣體均勻分布，IGZO屬于反應(yīng)式濺射，耙材不斷旋轉(zhuǎn)，不斷接受濺射材料，耙材表面可以保持光滑，不會(huì)有小結(jié)瘤產(chǎn)生，保障膜質(zhì)的均勻性，減少缺陷面板的形成。最后，旋轉(zhuǎn)耙材還有自清潔功能，平面耙材總會(huì)有些區(qū)域不被濺射到，這樣就會(huì)造成有些區(qū)域存在殘留物，而旋轉(zhuǎn)耙材不斷旋轉(zhuǎn)，所有表面都會(huì)得到利用。此外，旋轉(zhuǎn)耙材還有一個(gè)磁極搖擺功能，即通過(guò)磁極的搖擺控制等離子體的濺射方向，實(shí)現(xiàn)等離子轟擊的均勻性，從而實(shí)現(xiàn)膜質(zhì)的均勻性。